Centre de recherche avancée en nanolithographie ARCNL
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Ce projet est consacré au développement et à l'utilisation de la modélisation numérique du plasma chaud et dense dans des conditions pertinentes pour la nanolithographie ultra-ultraviolette (EUV) de pointe, où des sources de plasma laser sont utilisées pour fournir la lumière EUV requise. Vous fournirez des informations importantes accompagnant les efforts expérimentaux du Département Source de l'ARCNL et en outre, vous répondrez directement et indépendamment à certaines des principales questions ouvertes sur le terrain - en utilisant par exemple les progiciels de simulation déjà disponibles à l'ARCNL. De plus, vous fournirez des capacités de modélisation prédictive pour guider le développement de sources lumineuses EUV de nouvelle génération. Vous serez intégré dans l'équipe EUV Plasma Processes de l'ARCNL, où vous collaborerez avec une équipe de jeunes chercheurs talentueux: théoriciens et expérimentateurs.
Le Centre de recherche avancée pour la nanolithographie (ARCNL) se concentre sur la chimie et la physique fondamentales impliquées dans les technologies clés actuelles et futures de la nanolithographie, principalement pour l'industrie des semi-conducteurs. ARCNL est un partenariat public-privé entre l'Organisation néerlandaise pour la recherche scientifique (NWO), l'Université d'Amsterdam (UvA), l'Université VU d'Amsterdam (VU) et le fabricant d'équipements à semi-conducteurs ASML. L'ARCNL est situé au Science Park d'Amsterdam, aux Pays-Bas, et compte actuellement environ 100 scientifiques et membres du personnel de soutien. Voir aussi www.arcnl.nl
Les activités de recherche du groupe EUV Plasma Processes visent à comprendre la dynamique de base au niveau atomique et moléculaire du fonctionnement des sources plasma contemporaines et futures de lumière ultraviolette extrême (EUV) pour la nanolithographie.
Vous devez satisfaire aux exigences d'un diplôme de médecin et avoir une expérience de recherche dans un environnement universitaire non néerlandais. Des connaissances et / ou une expérience dans le domaine des simulations hydrodynamiques de rayonnement sont avantageuses. De bonnes compétences en communication verbale et écrite (en anglais) sont requises.
Le poste est prévu comme un engagement à temps plein (40 heures / semaine, 12 mois / an) au service de l'Organisation des instituts de l'Organisation néerlandaise pour la recherche scientifique ( NWO-I ) pour une durée maximale de trois ans. L'ARCNL assiste tous les nouveaux post-doctorants étrangers dans les demandes de visa et compense leurs frais de transport et de fourniture.
Dr Oscar Versolato et Dr John Sheil
Chef de groupe Processus plasma atomique
Courriel: versolato@arcnl.nl
Téléphone: +31 (0) 20-851 7100
Vous pouvez répondre à cette offre en ligne via le bouton ci-dessous.
Veuillez annexer votre:
- Reprendre;
- Motivation sur la raison pour laquelle vous souhaitez rejoindre le groupe (max. 1 page).
Il est important pour nous de savoir pourquoi vous souhaitez rejoindre notre équipe. Cela signifie que nous ne considérerons votre candidature que si elle implique votre lettre de motivation.
Les candidatures seront évaluées sur une base continue et dès qu'une excellente correspondance sera établie, le poste sera pourvu.
Le dépistage en ligne peut faire partie de la sélection.
Les activités commerciales en réponse à cette annonce ne sont pas appréciées.
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