Doctorant: Spectroscopie ultra-rapide à rayons X doux et imagerie de nanostructures semi-conductrices
Centre de recherche avancée en nanolithographie ARCNL
Université étatique (Pays-bas), Parcourir ses opportunités similaires
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Le groupe de génération H igh-harmonic et EUV et le groupe EUV Generation and Imaging de l'ARCNL, Amsterdam, ont une ouverture pour un poste conjoint de doctorat de quatre ans.
Dans ce projet, vous contribuerez à nos recherches en cours pour développer de nouvelles techniques de spectroscopie, d'imagerie et de métrologie à semi-conducteurs ultrarapides femtoseconde à attoseconde dans le domaine spectral des rayons X mous. Cela comprend le développement de la diffusion spectroscopique à rayons X mous pour déterminer l'épaisseur de diverses couches de taille nanométrique dans des structures semi-conductrices multicouches, le développement de méthodes d'imagerie à rayons X mous pour les structures non périodiques et le développement de la métrologie ultra-rapide pour caractériser les contacts électriques entre les différentes couches. sans contact. Les premières expériences seront menées dans des nanostructures semi-conductrices qui ressemblent à des circuits intégrés actuels. Vos recherches contribueront ainsi à mettre en contact les domaines fondamentaux de la science attoseconde et de la génération des harmoniques élevés avec des applications industrielles pour mesurer des structures nanométriques. En outre, les techniques développées peuvent être utilisées à l'avenir pour étudier la dynamique et les transitions de phase dans des matériaux fortement corrélés, qui présentent à la fois une dynamique ultra-rapide et des morphologies à l'échelle nanométrique.
Pour réaliser ces ambitions, vous aurez accès à et vous aiderez à finaliser une configuration de table pour générer des impulsions de rayons X doux (longueur d'onde de 2 à 10 nm) à partir d'une génération à haute harmonique avec une puissance unique, multi-mJ, 50 amplificateur paramétrique optique infrarouge moyen à kHz. De plus, le groupe est équipé de systèmes laser Ti: Sa du commerce, qui permettent des expériences similaires dans le domaine spectral extrême ultraviolet (10-100 nm).
Finalement, l'objectif est de relier les mesures spectroscopiques d'absorption transitoire et de réflexion avec la diffusiométrie et les techniques de diffraction cohérente, afin de permettre une imagerie attoseconde tout optique avec une résolution spatiale nanométrique et une spécificité d'élément.
Les groupes de la génération à haute harmonique et de la science EUV développent et utilisent de nouvelles sources de rayons X mous et ultraviolets extrêmes basés sur une génération à haute harmonique dans la gamme d'énergie de 10 à 600 eV pour les applications de spectroscopie et de métrologie. Les domaines d'intérêt spécifiques sont la spectroscopie à résolution temporelle attoseconde et femtoseconde de la dynamique chimique et à l'état solide complexe, les nouvelles stratégies pour une génération efficace d'harmoniques élevées, ainsi que de nouvelles voies pour l'imagerie à l'échelle nanométrique des structures semi-conductrices. De nouveaux types de spectroscopies d'absorption et de réflexion transitoires attoseconde et femtoseconde, ainsi que des techniques de diffusion, sont développés et appliqués à des questions fondamentales particulièrement pertinentes pour la nanolithographie.
Le groupe est équipé de lasers Ti: Sa (Titane: Saphir) pour la génération d'harmoniques élevées. En outre, un système unique d’amplification à impulsions pulsées optique paramétrique multi-mJ (OPCPA) de 50 kHz a été récemment achevé et peut être mis à la disposition de ce projet.
Le groupe EUV Generation and Imaging de l'ARCNL se concentre sur le développement et l'application de la technologie avancée d'imagerie sans lentille et informatique, utilisant des rayonnements allant de la lumière visible aux longueurs d'onde des rayons X mous, dans le but de visualiser et d'étudier les structures à l'échelle micro et nanométrique avec des détails et un contraste sans précédent. En outre, nous explorons des voies vers l'optimisation de la production de lumière ultraviolette extrême à partir de plasmas produits par laser, en utilisant des méthodes optiques avancées et une technologie laser ultra-rapide.
Les groupes abritent des laboratoires de pointe au Centre de recherche avancée pour la nanolithographie (ARCNL). Le Centre de recherche avancée pour la nanolithographie (ARCNL) se concentre sur la physique et la chimie fondamentales impliquées dans les technologies clés actuelles et futures de la nanolithographie, principalement pour l'industrie des semi-conducteurs. ARCNL est un partenariat public-privé entre le Conseil néerlandais de la recherche (NWO), l'Université d'Amsterdam (UvA), l'Université VU d'Amsterdam (VU) et le fabricant d'équipements à semi-conducteurs ASML. L'ARCNL est situé au Science Park d'Amsterdam, aux Pays-Bas, et héberge actuellement une centaine de scientifiques et de personnel de soutien. Nous offrons un environnement dynamique et ouvert et visons à fournir les conditions optimales pour que les jeunes scientifiques puissent mener des recherches passionnantes menant à des résultats à fort impact, qui se concentrent sur les défis fondamentaux de la physique et de la chimie, et pourraient également avoir une pertinence technologique directe.
Vous devrez remplir les conditions requises pour obtenir un diplôme de maîtrise, afin de garantir votre éligibilité à un examen de doctorat néerlandais. Un diplôme en physique, chimie physique, génie électrique ou dans un domaine étroitement lié est le meilleur choix pour ce projet. Vous aimez effectuer des expériences et des analyses pour approfondir progressivement votre compréhension des mécanismes physiques complexes. Une expérience dans un ou plusieurs des sujets concernés (génération d'harmoniques élevées, lasers et optiques ultra-rapides, instrumentation sous vide, science attoseconde et femtoseconde, spectroscopie et diffusion EUV et X-Ray, imagerie optique), en particulier expérimentalement mais aussi théoriquement, est avantageuse .
De très bonnes compétences en communication verbale et écrite (en anglais) sont requises.
Le poste est prévu comme un engagement à temps plein (40 heures / semaine, 12 mois / an) au service de la Fondation néerlandaise des instituts de recherche scientifique (NWO-I) pour une durée de quatre ans, avec un salaire de départ de € brut 2441 par mois et une gamme d'avantages sociaux . Après avoir terminé avec succès la recherche de doctorat, un doctorat sera accordé à la Vrije Universiteit (VU) Amsterdam. Plusieurs cours sont proposés, spécialement développés pour les doctorants. L'ARCNL assiste tout nouveau doctorant étranger dans les démarches de logement et de visa et prend en charge les frais de transport et d'ameublement.
Une convention fiscale favorable, la «décision des 30%», peut s'appliquer aux candidats non néerlandais.
Peter Kraus
Chef de groupe (Génération à haute harmonique et science EUV)
Professeur assistant de physique à la Vrije Universiteit (VU) Amsterdam
Courriel: p.kraus@arcnl.nl
Téléphone: +31 (0) 20-851 7100
Stefan Witte
Chef de groupe (EUV Generation and Imaging)
Professeur associé de physique à la Vrije Universiteit (VU) Amsterdam
Courriel: s.witte@arcnl.nl
Téléphone: +31 (0) 20-851 7110
Vous pouvez répondre à cette offre en ligne via le bouton ci-dessous.
Veuillez annexer votre:
- Reprendre;
- Motivation sur la raison pour laquelle vous souhaitez rejoindre le groupe (max. 1 page).
Il est important pour nous de savoir pourquoi vous souhaitez rejoindre notre équipe. Cela signifie que nous ne considérerons votre candidature que si elle implique votre lettre de motivation. au.
Les candidatures seront évaluées sur une base continue et dès qu'une excellente correspondance sera établie, le poste sera pourvu.
Le dépistage en ligne peut faire partie de la sélection.
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